ОПИСАНИЕ

Оптрон

АО «Оптрон» предлагает услуги сторонним организациям по выполнению следующих производственных операций: Металлообработка: Изготовление и ремонт штампов (максимальные габаритные размеры: 250×300×250мм). Изготовление и ремонт технологической оснастки. Изготовление и ремонт нестандартного оборудования. Изготовление и ремонт нестандартной электромеханической оснастки. Монтаж радиоаппаратуры (единичное и мелкосерийное производство). Регулировка радиоаппаратуры (единичное и мелкосерийное производство). Токарная обработка легированных, конструкционных и цветных металлов (единичное и мелкосерийное производство). Фрезерная обработка (единичное и мелкосерийное производство). Слесарная и слесарно-сборочная обработка (единичное и мелкосерийное производство). Холодная штамповка деталей на прессах 3т, 5т, 10т (серийное и крупносерийное производство). Штамповка дисков и прокладок от Ø 0,3мм и толщиной 0,02мм ÷ 0,16мм из сплавов мягких металлов (до 3,0 по шкале Мооса). Полупроводниковая технология: Осаждение нитрида кремния из газовой фазы. Термическое окисление кремния. Плазмохимическое травление нитрида кремния. Магнетронное осаждение металлов. Вакуумное (термическое) осаждение металлов. Проверка герметичности приборов на малые течи. Лазерная маркировка приборов. Гальвано- и термообработка: Травление деталей в растворах неорганических кислот (HCl, H2SO4, HNO3, HF). Нанесение гальванопокрытий и подслоев (матовый никель, никель-кобальт, цианистая медь). Объем ванны: 24 л; Максимальные габаритные размеры деталей: 20×20×20мм; Обработка деталей в четыреххлористом углероде в ультразвуковой установке. Электрохимическая очистка проволоки. Отжиг проволоки диаметром до 0,5мм в активной среде при температурах до 1 500°С. Холодная прокатка металла до толщины 0,03мм из слитка сплава толщиной не более 15мм, шириной не более 70мм. Пайка и отжиг изделий в электронагревательных устройствах в среде водорода, азота, формиргазе при температуре не более 1 000°С. Габаритные размеры рабочей зоны конвейерной печи 170мм×100мм, колпаковой печи — Ø 175мм, высота 300мм. Термообработка деталей из металлов в муфельной печи (закалка, отжиг, нормализация). Максимальная температура: 1 000°С. Размеры нагревательной камеры 200×300×180мм. Обжиг заготовок керамических изделий в муфельной печи. Максимальная температура: 1 000°С. Размеры нагревательной камеры 200×300×180мм. Изготовление металлостеклянных корпусов (КД-1-2, КД-4-1). Изготовление металлокерамических корпусов (КД102, КД105, КД106) и возможность нанесения на них никеля и золота гальваническим способом. Выращивание эпитаксиальных структур на основе материалов: Si, AlGaAs/GaAs, AlGaInP/GaInP/GaAs, AlInAs/GaInAs/InP, AlGaInN/GaN, AlGaInN/Si. Кремниевые эпитаксиальные структуры: Диапазон параметров кремниевых эпитаксиальных структур Диаметр подложки 40, 60 мм Ориентация (111), (100) Легирующая примесь подложки Сурьма, Бор, Мышьяк Толщина эпитаксиального слоя, мкм 3,0 – 150 Легирующая примесь эпитаксиального слоя Фосфор, Бор Удельное сопротивление эпитаксиального слоя, Ом × см n-тип 0,01 – 500 p-тип 0,01 – 100 Типы однослойных структур n-n+, p-n+, p-p+, n-p+ Типы двухслойных структур n1-n2-n+, n1-n2-p+, n-p-n+, p-n-p Гетероэпитаксиальные структуры AlGaAs/GaAs, AlGaInP/GaInP/GaAs, AlInAs/GaInAs/InP: Диапазон параметров гетероэпитаксиальных слоев на основе твердых растворов Диаметр подложки 50мм, 76мм, 100мм Ориентация (111), (100) Тип электропроводности подложки n- и p-тип, полуизолятор Толщина эпитаксиального слоя 50 А – 20 мкм Концентрация носителей заряда в эпитаксиальном слое, см-31х1016 – 5х1018, n- и p-тип Типы структур По спецификации заказчика