комплекс оборудования для нанесения алмазных покрытий включает систему управления и вакуумную установку
Нанести на металл алмазные покрытия этого типа можно двумя способами: физическим осаждением из паровой фазы (PVD) и химическим осаждением из паровой фазы (CVD).
Технология PVD - процесс, при котором материал переносится из конденсированного источника в паровую фазу, а затем осаждается на подложку, формируя тонкий слой. Этот эффект достигается в вакуумной среде и может включать разные методы, такие как магнетронное, электронно-лучевое или дуговое испарение.
Преимущества PVD - высокая чистота и однородность покрытий, более низкая рабочая температура, что важно для термочувствительных материалов, и улучшенные адгезионные свойства.
Оборудование для нанесения алмазных покрытий химическим осаждением (CVD) запускает на поверхности подложки химические реакции газообразных веществ, что тоже приводит к образованию твердого покрытия. Этот процесс может быть термическим, плазмоусиленным и лазерно-индуцированным. Его преимущества:
- возможность нанесения покрытий на большой спектр материалов;
- высокая равномерность и контроль толщины покрытия;
- возможность получения покрытий различной структуры, включая аморфные и кристаллические.